Vui lòng liên hệ với chúng tôi– chúng tôi sẽ liên hệ lại với khách hàng bằng điện thoại hoặc email.
Lưu ý: Tham khảo ý kiến của nhân viên INO sẽ giúp bạn tiết kiệm được thời gian và chi phí khi cần mua sắm. Với sự tư vấn của chúng tôi, bạn sẽ không gặp khó khăn khi tìm hiểu về đặc tính của sản phẩm cần mua.
Low cost, high throughput EBDW system writes circuits of 65nm and smaller
The F3000 is an EB lithography system optimized for system LSIs of 65nm and smaller, supporting 300 wafer process technology, that offers shorter TATs in high-mix, variable-volume production environments.
Inheriting the high-resolution electron optical technology, the reliability, and the high average operation rate of previous models, the F3000 also boasts a more rigid body and upgrades to every aspect of its functionality, leading to significant improvements in image placement accuracy.
As a further measure to enhance lithographic processing capacity and pattern characteristics, the F3000 is equipped with an upgraded CP exposure function.
- Ideal for writing system LSIs in high-mix, variable-volume production environments
- High resolution, high accuracy, high throughput
- Supports 300mm wafers
- Offers full & partial CP exposure functionality
- Self-cleaning technology
| Supported Wafer Size | 300mm |
|---|---|
| EB Acceleration Voltage | 50kV |
| Lithography Methods | CP, VSB |
| Reduction Ratio of CP Projection | 60x |
| Supported Nodes | 65nm |
Resource & Download
Lưu ý: Nếu một thiết bị nào đó không được liệt kê ở đây, điều đó không có nghĩa rằng chúng tôi không hỗ trợ được bạn về thiết bị đó. Hãy liên hệ với chúng tôi để biết danh sách đầy đủ về thiết bị mà chúng tôi có thể hỗ trợ và cung cấp.
INO: Bán, Báo giá, tư vấn mua sắm và cung cấp, tư vấn sản phẩm thay thế; tương đương, hướng dẫn sử dụng, giá…VNĐ, …USD info@ino.com.vn | 02873000184 | Advantest-E-Beam Lithography (Model:F3000).
Comments are closed.